产品描述
日立高新磁控溅射器(MC1000)采用电磁管电极，能有效减轻对样品的损伤并实现均匀涂覆，适用于高分辨率扫描式电子显微镜。设备支持最大样品直径60mm，高度20mm，配备LCD触摸屏便于操作，具备记忆功能存储常用条件，并可选配处理较大样品的配件。
应用领域
一、数据存储领域
1. 磁性薄膜制备：用于制备硬盘驱动器中的磁性存储薄膜。通过磁控溅射技术，可以精确控制磁性薄膜的厚度、成分和晶体结构，从而实现高存储密度和快速的数据读写性能。例如，溅射钴基合金薄膜作为磁记录介质，能够提高硬盘的存储容量和数据传输速率。
2. 磁头材料镀膜：对磁头的表面进行溅射镀膜，可改善磁头的性能和耐磨性。例如，在磁头表面溅射一层氮化碳薄膜，能够提高磁头的硬度和抗腐蚀性能，同时减少磁头与磁盘之间的摩擦，提高磁头的使用寿命和读写精度。
二、能源领域
1. 太阳能电池：在太阳能电池的制备中，MC1000可用于溅射透明导电氧化物薄膜，如氧化铟锡（ITO）薄膜，作为太阳能电池的电极，具有高透明度和良好的导电性，能够提高电池的光电转换效率。此外，还可溅射减反射薄膜，增加太阳能电池对太阳光的吸收。
2. 燃料电池：用于制备燃料电池中的催化剂薄膜和电解质薄膜。例如，溅射铂基催化剂薄膜在质子交换膜燃料电池的电极上，能够提高催化剂的活性和稳定性，促进电化学反应的进行。同时，溅射电解质薄膜可以提高燃料电池的性能和效率。
三、珠宝装饰领域
1. 金属薄膜镀膜：在珠宝饰品表面溅射各种金属薄膜，如金、银、铂等，可实现仿金、仿银等效果，提高饰品的外观质量和装饰性。同时，溅射的薄膜具有良好的耐磨性和耐腐蚀性，能够保护饰品表面，延长其使用寿命。
2. 彩色薄膜制备：通过磁控溅射技术制备各种彩色薄膜，如氮化钛（TiN）薄膜具有金黄色的外观，氮化锆（ZrN）薄膜具有银白色的外观，碳化钛（TiC）薄膜具有黑色的外观等。这些彩色薄膜可用于珠宝饰品的表面装饰，增加饰品的色彩多样性和独特性。
仪器功能
一、导电膜制备：主要用于为扫描电镜样品镀制导电膜，通过向不导电或导电性差的样品表面喷镀金、铂、钯及混合靶材等金属，消除样品的荷电现象，提高观测效率，以便于在扫描电镜下进行高倍率观测。
二、镀膜均匀：利用磁场控制金属颗粒的溅射喷镀轨迹，使镀层更均匀，能在样品表面形成均匀的粒子涂层，适用于高分辨率的扫描式电子显微镜，可满足对微观结构较复杂样品的观测需求。
三、条件控制与调节：在电镀过程中可调节真空强度，并可按照电流强度或者时间对电镀效果进行调节，样品喷镀高度距离可调。还可通过选配测量单元实现1nm至30nm的镀层厚度控制。
仪器特点
一、操作便捷：采用LCD触摸屏控制技术，操作方便，界面友好，可直观地进行各种参数设置。同时具有记忆功能，可存储五种常用的加工条件，方便用户快速调用，提高工作效率。
二、样品适应性强：标准配置下最大样品直径可达60mm，高度为20mm，并且可通过选配件处理较厚或较大的样品，能满足不同尺寸和形状样品的溅射镀膜需求。
三、损伤小：采用电磁管电极，最大限度减少对样品的损伤，特别适合对精细样品进行处理。
四、放电稳定：属于磁控二极管放电型（电场垂直于磁场），电极组成为反向平行盘（嵌入磁铁），这种结构使得放电稳定，能够提供稳定的溅射条件，保证镀膜质量。
技术指标和基本参数
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型号
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MC1000
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放电类型
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磁控二极管放电型（电场垂直于磁场）
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电极组成
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反向平行盘（嵌入磁铁）
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电压
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最大0.4kV DC（直流可变）
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电流
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最大40mA DC
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喷镀速率（最大）
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压力7Pa，放电电流40mA
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样品尺寸
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最大直径Ф60mm，最大高度20mm
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机械泵
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135/162L/min（50/60Hz）
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靶材
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Pt，Pt - Pd（8:2），Au，Au - Pd（6:4）
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电源要求
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单相，100VAC（±10%）15A（50/60Hz），3-针插头线缆（3m）
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尺寸
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宽度450mm，长度 391mm，高度 390mm
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重量
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主机约25Kg，机械泵约28kg
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